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为什么唱衰中国光刻机制造,十年都造不出来的评论少了?

光刻机中国一直都在制造,中国早在上世纪70年代就开始研制光刻机,比很多国家都早。

但是,现实是中国独立研制的光刻机现在最多只能达到90nm的精度,相对于国际上5nm的先进水平,差距可以说至少有二三十年。

中国现在有公司提供20nm左右精度的光刻机,那是用了人家的二手设备来翻新的,这的确算是一条好的路径,但说不上是独立自主的道路。

一项高端技术的突破,往往意味着有无数的底层基础技术的突破,就好像一个“金字塔”。基础没修好,只修塔尖,那是“空中楼阁”,不可能实现。而要突破无数个底层基础技术,甚至牵涉到你、我、他人才输送(所以别总是埋怨“科学家”,大家都有责任),数十年时间都未必实现得了,特别是路子走得不对的话,永远突破不了也不奇怪,想想我们数千年的历史,突破了多少基础技术?清朝的独立自主技术比两千年前的秦国多多少?

光刻机是人类高端科技的集合体,现在ASML公司的高端光刻机一台售价高达5亿美元左右,可见成本之高。对于我们,如果当中成千上万的组件都要独立研发,由于产量少分摊多,光分摊研发成本恐怕就远不止这个数。而每一个组件可能又是又成千上万的更小组件构成,小组件又由更小零件构成……追究下去最后还是落到了基础材料、人才、资金和技术积累上,这就是“金字塔”的基础。这要全社会的人力、财力、时间还要加上有效率的机制配合才行,根本急不来。而且,芯片厂的实力也是个制约,台积电、三星新一代制程的工厂投资,起步就是250亿美元,我们从90nm过渡到5nm,这中间跨越七八代,得多少投资啊!而且我们还面临很多现实的问题:专利壁垒、有钱买不到技术和设备、开发出来了人家就会低价竞争。

虽说差距甚大,但我们也不必气馁。受限于“量子效应”,光刻机的发展就快到天花板了:原子的直径也就0.5nm左右,芯片的线路再小,就变成不连贯(一份份的量子)的了,“量子”本身存在漂移和不确定性,都会是芯片的发展瓶颈(新一代投资大增、失败几率也大增主要也是这个原因)。

前面止步不前,只要我们认清差距,奋起直追,还是有希望赶上的。芯片这种科技,要的是实干,容不得半点虚假,整天大吹大擂,蒙蔽自己,只会浪费时间。

感谢邀请

为什么唱衰中国光刻机制造,十年都造不出来的评论少了?

题主问题的核心是为什么唱衰中国光刻机制造,十年都造不出来的评论少了?我们当初唱衰是因为确实当初中国光刻机制造不行,而且截止到目前为止,确实最强的还是65nm,虽然说中国军队确实还在使用,当然这是为了稳定性和抗干扰能力所以才会用之前的工艺,但是毕竟人家商用都到了EUV7nm,而且今年都开始5nm工艺了,所以我们差距有些大,为啥最近一段时间没有人说了呢,我觉得有以下几个原因:



1.这两年华为遭到了限制,所以大家都希望国产光刻机发展起来。

这个实际我觉得无可厚非,因为美国限制的意义就是不让所有使用美国技术的企业给话为提供芯片制造,以及元器件等等,但是华为现在很多做到了,比如就拿今年的华为P40系列来说,他只有用了一个美国的元器件,那就是射频前端,而其他的就没有了。

而在今年美国再次限制,意思很明显,那就是之前的限制对于华为来说,都在慢慢的破解,比如就拿国外的google的GMS服务,而华为用自家的HMS服务答题,而且华为鸿蒙系统,出现这是势在必得的。


所以现在只有芯片了,我们也只能靠着台积电,但是台积电确实光刻机是来自于荷兰,而荷兰光刻机有美国的技术,不如刻量单位等等还有很多确实都是使用美国技术的,因为本身ASML做那么大就是因为使用了各个国家最好的技术。

所有我们希望国内最强的上海微电子可以快点发展起来,这也是为啥补偿衰的原因了。



2.上海微电子确实有好消息,预计在年底的时间28nm产品线将会开始量产。

实际我们知道现在上海微电子还是在65nnm这是他最成熟的工艺,而这次28nm的到来确实不是最强的,但是对于国内来说这已经是很不错了,如果美国限制开始,实际这是纯国产最强的工艺。

而上海微电子说实话这两年的变化挺大的,而且我们确实不得不去佩服国产科技方面的实力,确实在一步步的提升和进步。


个人的想法和看法:

对于我们而言来说。我们倒是希望国内光刻机可以快速发展,这样不受到国外的限制,让她们知道,我们不是不想去用国产,而是说我们只是觉得,行业中应该人人都可以有钱可赚,实际就像是任正非所说,我们实际有些零件可以自己生产,但是我们还是去用国外的,就是觉得我们不能把事情做绝了,要给别人留点余地,大概就是这意思。

当然现在国产光刻机确实还没有达到这样的地步,但是相信离顶峰已经不远了,至少说明我们有这样的能力。


回答完毕

欢迎留言发表不同的看法和想法:

只要中国人真心想办的事

没有办不到的

光刻机制造虽然与世界最先进的水平相比拉下一短距离

但我国正在快速前进

第一.发力追赶

第二.开劈新路径也许能弯道超车

近来不断有新消息传出

总趋势向好

给国人增添了信心

故,唱衰的声音减弱

#凌远长著#

“十年都造不出来”基本上属于客观和理性的评论,切中了中国光刻机技术发展现状、暗合了光刻机科技发展规律,不属于唱衰。

有人说的“100年都造不出来”才是唱衰性质的评论。至于“ASML即使把图纸交给中国,也造不出光刻机来”,就更是唱衰了,达到了登峰造极的地步,不止是在损害中国企业的名声,更是在打击中国人的信心。由此可见,客观和理性地评论中国光刻机制造有多么重要,而客观和理性也正是中国网上评论的主流。

从现在起十年左右才能制造出先进光刻机本就是1个显在的结论。仅是底层技术补足、部件技术提升就绝不是一朝一夕能够实现的,虽然中国企业已经具有一定的技术基础,特别是在美国空前打压之下,研究力度必定空前加大、开发节奏必定空前加快。

“十年都造不出来”的评论少了是由于不需要再做很多的评论。网上对中国何时能够制造出先进光刻机的评论持续时间很长,从几年前开始的,几度高潮,最近一次的高潮是在华为代工渠道可能被全部切断之际掀起,估计下一个高潮是在2021年或2022年,即上海微电子推出精度为28nm光刻机之时。多年来太多的评论让“独立自主”以及“假以时日”成为了热词,国人从而在中国光刻机不是短时间内能造出来、十年八年却一定能这个上形成了共识,并且,几乎完全清楚了当前的技术差距很大是由哪些个客观和主观的原因共同造成的,而那些个主观原因则表明先进光刻机制造即便难度真的高于原子弹制造,如果在过去的那些年里一直做着以自力更生为主的努力,到今天也不至于再需要十年八年。反正是评论已经几达穷尽,应该“换个话题”。

评论对象已经发生了转换。话题确实已经转了,开始评论华为将使用联发科芯片以打破无芯可用局面、华为将与比亚迪合作以强化芯片研制布局、华为将使用光子芯片以规避电子芯片极限,等等,同时开始对不断涌现的与华为未来发展密切相关的国内技术突破消息进行评论。所有评论的内容仍然是以既不妄自尊大又不妄自菲薄为主基调,总体上对国人赋予了满满的信心,包括华为困难是暂时的,也让众多的国人发出了叫好、欢呼、喝彩之声。话题,几乎都由华为当前困境引起,大都集中于半导体领域,大都触及到了中国科技发展的瓶颈。

中国科技发展瓶颈问题正是多年来网上评论最多的。话题总在换,科技发展瓶颈讨论却从未中断过,覆盖了所有科技领域,占满了包括今日头条在内的各大平台空间,具体评论对象岂止是芯片设计、芯片代工、光刻设备。可以说这是中国网上的一大特色、最大亮点,对中国科技发展特别是早日突破高科技发展的当前瓶颈弥足珍贵。

回答完毕,感谢题主!

虽说中国的光刻机起步比不少国家都要早一些,但是由于各种原因现在已经全面落后于第一梯队。最近不少朋友发现尽管中国光刻机在短时间内没法取得突破,但是唱衰中国光刻机制造的负面声音确实少了很多。这到底是什么原因呢?我认为有如下三点。

很多朋友已经敢于直面差距

其实很多人唱衰中国光刻机的发展并没有太多的恶意,更多的是有点“哀其不幸怒其不争”的感觉。他们希望我们的祖国越来越强大,各项技术都位居世界先进水平,这样他们才会感觉满足。当然这种情况不可能出现,尤其是在华为被美国在光刻机领域卡脖子后,他们更加希望祖国能在光刻机领域有所突破。

不过在深入了解光刻机技术后,很多朋友也意识到中国肯定没法在短时间内完成赶超,于是在心中已经承认祖国在这个领域确实技不如人,自然在网上的戾气也就少了很多。

对中国未来光刻机发展充满信心

况且中国的光刻机领域其实也没有那么差,虽说中高端光刻机市场基本上都被ASML把持着,但是中国企业在低端市场还是相当具有话语权的。

虽说国产光刻机的最高精度只有90nm,但是据相关媒体透露中国光刻机领域的领头羊上海微电子预计在2021年交付精度达到28nm的产品,这无疑给不少朋友打了一针强心剂。

再加上近几年国家也意识到我国在这个领域确实全面落后于其他国家,已经在政策和资金方面有所倾斜。虽说目前来看我国在光刻机领域和其他国家差距可能不止十年,但是我们还是可能慢慢赶上的。

碳基芯片有望绕过光刻机壁垒

在今年6月初中科院院士、北京大学教授彭练矛和张志勇所率领的团队在国际权威学术杂志《科学》上刊登了一篇关于碳基芯片的文章,表示在新一代碳基芯片的研发上取得突破性进展。根据文章显示碳基芯片不止运行速度更快,并且更加节能,很可能是未来芯片发展的新方向。

最关键的一点的这项技术并没有用到光刻机,这意味着如果碳基芯片真的能够上市的话,光刻机再也不能成为美国卡中国脖子的“利器”。不过这项技术短期内商用还存在不少的难题,还需要接下来取得更多的突破。

不得不承认很多朋友现在更加理性,感觉承认不足,我觉得这是特别棒的一件事。中国在以前有太多项技术落后于其他国家,最后都被我们慢慢追赶了上来。只要我们憋着一股劲,终有一天别的国家有的我们全有,我们已经有的会发展的更好!

真的不是光刻机的问题,要对人才和研究创造更好的社会环境,让浮燥的社会宁下来,让人们安居乐业,让专业的人做专业的事,崛起不是某一方面,而是全面发层,厚积薄发,把科学技术沉积下来,别一切都以经济去促发展,钱不是一切,也不能为了钱不顾一切,让社会步入良性发展轨道,那么冬天的尽头就会是百花争艳的春天

因为历史已无数次的证明了只要中国全力以赴想做的事情,还没有 一件是没有成功的,新中国在最困难的时期,科学家们饿着肚子用算盘都成功研制出两弹一星,这样的事例不胜枚举。难道光刻机比两弹一星还难以制造吗,以前这方面落后的原因是有些投入产出等商业利益的考量在里面,而如今面对美国的围堵,我们已经完全放弃幻想,大家拭目以待,不用等多久就能见证中国光刻的问世。上述这些观点多数对中国有客观认知的朋友都会赞同,所以十年造不出来的评论自然会少了。

感谢您的阅读!

【为何现在唱衰我们十年都制造不出光刻机的说法越来越少了呢】

华为被美国采取多种禁止措施,给了我们深深的压力,在芯片制造中,我们确实有一种无法描述的痛,就是光刻机。我们这些年一直在不断的追求能够解决光刻机的困扰,即使我们现在的中芯国际能够通过N+1,让芯片工艺制程无限接近台积电的7nm工艺。但是,和现在的5nm,甚至未来的3nm差异确实不小。

其实,我们也知道:我国的光刻机技术确实在目前来看有了一定的进步,至少从目前来看,我们看到了上海微电子的90nm以及宣布研发的22nm工艺的光刻机。

但是,我们的光刻机就是受到了限制,这里的限制包括了——

1.在技术能力方面的限制。这种技术能力,我觉得是光刻机多种技术的合集,我们很难打破这方面的束缚,比如我们熟知的,激光加工方式,包单晶炉,晶圆划片机,电子级多晶硅,氟聚酰亚胺等等。


2.在材料等方面的垄断。比如,光刻胶被日本垄断,分别是日本的JSR、东京应化、信越化学以及富士电子材料四家,合计的市场占有率便高达72%,这方面我们就不具有优势。

3.独一无二的经营方式。ASML从来就不是一家企业独立发展,它将各大企业,包括三星,英特尔等等拉为它的股东,让ASML的发展,是这几个企业共同协同发展。

4.西方国家通过【瓦森纳协议】不断制约我国光刻机的发展,这也是不可或缺的制约之一。

但是,我们为何关于唱衰我国光刻机技术的说法变少了呢?因为我们一直在研究和进步。比如,中科院的《超分辨率激光光刻技术制备 5nm 间隙电极和阵列》的研究,比如我国北大碳基芯片等等,这都说明了我们再进步,这才是大家诟病的少了,给我们科学家们一些时间,一定能够弯道超车。

说起前一阵有人唱衰中国造不了出光刻机,我不由想起:

说我们国家是贫油国

说我们造不出原子弹

说我们造不了航母

说我们造不了盾构机

说我们造不了高铁

说我们造不了……

脸被打怕了吧

其实我们是:

头被砍了仍会挥干戚,

被海淹死衔微石,

山阻门口就搬掉的民族

是的,光刻机绝不是靠喊口号就能造出来的。但所有的事物,尤其是技术发展都需要由0到1的过程,我们国家近现代在很多领域都落下了课,需要有补课的过程,但摸石头过河,实在不需要把过程想的那么难。

但是弯道超车的领域,大家都在同一起跑线上,我们也不用太妄自菲薄,正如现在热点的事件,华为遭美利坚举国打压那样,正是因为华为在5G方面,领先一个身位了,所以引起了他们的恐慌,其实正如之前我们舰队前出宫古海峡时,个别国家颇有微词,我们的发言人说的:今后中国舰队多穿越几次,他们习惯就好了!同样的我们国家现在领先的项目还太少,等我们各个领域都领先时,他们习惯了,也就不会再说三道四的了!

非常看好前段时间华为余承东与比亚迪李书福的会见,希望技术与技术的碰撞,擦出灿烂的火花,加油华为!加油中国!!!

唱衰光刻机2O年做不出来,是刺激下做应用的科学麻木了的神经,应该没有恶意,我是这样理解的,并非墙倒众人推。并且光刻机难做是因为没有市场,这次美国用光刻机卡脖子,明显市场让出来了,中国不论是谁,做出来就赚了,毕竟是个技术密集型的货,一台12亿,技术也不是外星人做的,国家再也不会伸头去给别人卡脖子,而不要国产货,国内有识之士必定会联合攻关,象航空发动机一样闯出国产的一片天下!

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